这篇主要介绍超高真空下的真空泵（Ultra High Vacuum ）： 溅射离子泵 NEG 泵 及 钛升华泵 Cryopumps

UHV:Ultra-high Vacuum,是指真空度小于1.0*10E-7Pa (1.0*10E-9mbar),主要用于表面分析科技中，如XPS AES TPD MBE 等

上图是世界上首台离子泵泵-由瓦里安发明 1957年 

     离子泵的名词解释及工作原理：

Sputter  Ion Pump: 溅射离子泵是靠电磁场的作用产生潘宁放电而使气体分子电离，利用电离产生的离子高速轰击阴极钛板引起

钛原子溅射，连续制造活性吸气膜使电离了的气体分子收附于其中达到抽气效果的真空泵。

Titanium Sublimation Pump 钛升华泵

主要依靠电子轰击或通电加热使吸气材料升温，达1200～1500℃时它将不断升华并沉积在水冷泵壁内表面，形成新鲜的活性

膜层而不断地吸收和“掩埋”气体分子。对活性气体主要是形成固化化合物，对惰性气体主要是“掩埋”。

NEG 泵： Non-Evaporable Getter